ウイルスソフト 比較のアピールポイント
大型国家プ一昨来初開けASPーA(側先端SoC基盤技術開発)。
狙うは日本半導体メーカーの新たなビジネススキーム構築。
A1990年代後半以降、「半導体立国ニッポン」復活を目指した企業間アライアンスや産官学連携の動きが活発化しているが、それらの多くは企業間で競合しない部分のみにフォーカスしたアライアンスであった。 しかし2002年、その中で異色ともいえるアライアンスがキックオフした。
それが側先端SoC基盤技術開発(ASPーA)である。 世代におけるSoC標準プロセスの整備と開発、それによる設計資産およびSoCの検証を行うラインの運営を目指すもので、要するにこれまで競合していた圏内各社が、基本的な設計や製造プロセスを一本化して行う「ニッポン連合軍」の結成に等しい。
言い換えれば、これまで各社ばらばらに行っていた開発投資や設計に関する研究をニッポン連合軍に統合して行い、その成果を具体的に各社で分け合おうというものだ。 ASPーAは、JEITAの半導体幹部会叩社(Ｆ、ルネサス、Ｍ電器産業、Ｎ、Ｔ、Ｏ電気工業、ローム、Ｓ電機、Ｓ、Ｓ)の賛同を得て、2002年7月に設立された。
代表取締役会長にはＨ製作所のＤ氏(非常勤)、代表取締役社長にはＴでマイクロプロセッサ・ASIC事業部長などを歴任したＫ氏が就任した。 資本金は設立時9億5000万円で、Ｆ、ルネサス、Ｍ電器産業、Ｎ、Ｔの5社が1億50・・・Ｎ相模原事業所の1000万円ずつを出資し、残りの5社が1000万円ずつを出資した。
2003年3月には大口株主5社の増資引き受けにより、時億5000万円に増資された。 具体的な事業内容は、IDM(垂直統合型半導体メーカー)や半導体先端テクノロジーズ(印己止め)との連携による卯m標準化プロセスの共同開発、半導体理工学研究センター(STARC)との連携による設計資産の流通促進など。
プロセス開発は、卯m以降も視野に入れている。 また、設計資産の流通促進とは、IPやSoCの検証なども含む。
開発は神奈川県相模原市のＮの研究棟内に設けられたクリーンルームで行われるが、このクリーンルームは国家予算からの事業費315億円をもとに整備された。 設計・施工は構築者であるＮが行い、製造装置の選定、発注は整備事業者である産業1117一大型町一卜で未来を切り開け技術総合研究所とＮが担当している。
運用が開始されて以降はASPーAの担当となる。 製造装置の機種搬入も完了し、2003年4月から本格的に始動した。
ASPーAは、オープンなSoCテクノロジーセンターとして、卯m世代の新たなビジネススキームを提供することを大きなミッションとしている。 具体的には大きく分けて三つある。
一つは、soCの快適な開発・試作環境、プロセス標準化による設計IPの蓄積、流通など、半導体メーカーに対するベストプラクテイスの提供である。 二つ目は、技術非競争領域への注力、競争力強化など、従来型のIDM(垂直統合型半導体メーカー、要するに1社ですべて内部リソースにより設計から製造、販売までを一気通貫で行うカンパニー)モデルの問題点解決である。
三つ目は印。 20、STAReの成果の具現化によるSoCプラットフォーム確立と、新たなビジネススキームの提供である。
ASPーAが異色なのは、各社が競合しない部分の開発・標準化だけでなく、圏内半導体産業の競争力強化と復権を目指し、オープンプラットフォームの構築によって各社が競合する部分の差異化を容易にする仕組み作りを目指している点である。 オープンなフレームワークに流通性を持った差異化のコンテンツを入れることのできる仕組み作りである。
ナレッジに流通性を持たせることができ、なおかつマーケットを軸にIDMとしての機能を差異化の武器にしていくことが可能となるのだ。 そのために、ASPーAでは、無駄な投資をなくすための標準化と同時に、IDMの良さとファンドリ1の良さを融合しつつ、マーケットを意識した一気通貫などのビジネスモデルを提案していく考えだ。
加年代は、設計から製造までを1社が一貫して行うIDMモデルが成功した。 しかし、卯年代はファプレスの設計メーカーと製造ファンドリーメーカーの台頭による水平分業化モデルが成功を収めた。
それに対し、ASPーAの目指すモデルは、オープンなフレームワークの上に差異化のコンテンツを入れ、IDMとしての機能を差異化の武器にできるモデルである。 「アンチ台湾ファンドリーというよりは、その良さを取り入れ、なおかつIDMの良さも取り入れたモデルを目指す」と社長のＫ氏は述べる。
まずは、300mウエハーを用いた卯mプロセスを立ち上げる計画だ。 2003年3月までにユニットプロセスを立ち上げ、6月にスループロセスを立ち上げた。
9月末からIP試作サービスを開始する予定。 さらに次のステップとして、日mプロセスを2004年12005年には立ち上げる構えであるが、技術的な議論は2003年間月ごろには開始する構えだ。
整備事業費の315億円に加え、運用費や関連した研究投資も含めると、総投資額は1000億円を超える見通しで、これは他の国家プロジェクトよりも大規模だ。 そのため、Ｋ社長は「失敗は許きれない。
退路はない」と、不退転の決意で臨む構えを示している。 垂直統合構造をブレイクする新たな企業群の登場ファプレスの旗手Hザインヘ大不況の中で一人勝ちし、2000年のITバブル崩壊を受けて、半導体大不況が深刻化した2001年8月、フアプレスベンチャー企業がJASDAQに株式公開を行い、IPOを取得した。
その企業の名前はザインエレクトロニクス。 同社は液晶コントローラーという半導体分野で世界シェアの6～8割を押さえ、一躍世界にその名を知られた。
この注目カンパニーを率いるリーダーがＩ代表取締役社長だ。 同氏は1991年にＴをスピンアウトしてザインを設立し、当初は受託設計などを行っていたが、町年にファプレスメーカーに転身した。
トータルセールスは2000年がU億円、2001年が侃億円。 2002年は118億円で、前年比剖%増の伸びを示した。
液晶を主としたFPD向けのアナログ・メモリー・ロジック混載のミックスドシグナルシステムＳＩを独自に開発、自社ブランドで展開する典型的な研究開発型企業であり、フアプレスベンチャーとしての成功を勝ち取っている。 最近では、RF関連のチップにも進出し、京都のギガテクノロジーズと資本提携するなど、次の飛躍に向けての開発およびアライアンスに余念がない。
ザインは中期的には2006年に向けて売上500億円を目標としており、年率臼%成長を目指している。 売上112億円という小さなベンチャー企業が一気に飛躍していく一つの姿は、半導体ビジネスでかなりの挫折感を味わった多くのニッポン人に夢を与えたと言ってよいだろ、っ。
Ｉ社長は、Ｔにおいて半導体技術部門のトップを務め、いわば重役一歩手前でＴを飛び出し、当時としては珍しい半導体ベンチャーカンパニーを設立したが、日本の初年代型ビジネスの限界点を早くも予測していたと言ってよい。 Ｉ氏は、半導体激動の時代はむしろベンチャーにとってはビッグチャンスだとして、次のようにコメントしている。
あん「このような激動の時代は、安パイ志向の大手には辛いが、ゲリラつまり規模の小さいベンチャーにとってはおもしろい。 時代の動きを先取りすることで、一気に踊り出ることができるからだ。
キーワードは技術開発のスピードと意思決定の早きだろう」Ｉ氏によれば、卯年代以降のバブル崩壊の中で、いわゆる「これでいいじゃん症候群」が生まれ、何が何でも勝つという気構えが多くの人々から失われたという。 確かに、バブル以降に社会に出てきた人たちは、日本の敗退する姿しか捉えておらず、勝利の美酒を味わうことなく、「まあ、こんなものでしょう」という負け癖の風潮が蔓延していったことは紛れもない。
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2003年3月には大口株主5社の増資引き受けにより、時億5000万円に増資された。 具体的な事業内容は、IDM(垂直統合型半導体メーカー)や半導体先端テクノロジーズ(印己止め)との連携による卯m標準化プロセスの共同開発、半導体理工学研究センター(STARC)との連携による設計資産の流通促進など。
プロセス開発は、卯m以降も視野に入れている。 また、設計資産の流通促進とは、IPやSoCの検証なども含む。
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三つ目は印。 20、STAReの成果の具現化によるSoCプラットフォーム確立と、新たなビジネススキームの提供である。
ASPーAが異色なのは、各社が競合しない部分の開発・標準化だけでなく、圏内半導体産業の競争力強化と復権を目指し、オープンプラットフォームの構築によって各社が競合する部分の差異化を容易にする仕組み作りを目指している点である。 オープンなフレームワークに流通性を持った差異化のコンテンツを入れることのできる仕組み作りである。
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それに対し、ASPーAの目指すモデルは、オープンなフレームワークの上に差異化のコンテンツを入れ、IDMとしての機能を差異化の武器にできるモデルである。 「アンチ台湾ファンドリーというよりは、その良さを取り入れ、なおかつIDMの良さも取り入れたモデルを目指す」と社長のＫ氏は述べる。
まずは、300mウエハーを用いた卯mプロセスを立ち上げる計画だ。 2003年3月までにユニットプロセスを立ち上げ、6月にスループロセスを立ち上げた。
9月末からIP試作サービスを開始する予定。 さらに次のステップとして、日mプロセスを2004年12005年には立ち上げる構えであるが、技術的な議論は2003年間月ごろには開始する構えだ。
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